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高功率、窄線寬177.3nm深紫外(wài)激光輸出在我國(guó)首次(cì)實現

發布時間:2013-05-23 作者: 來源:科技部(bù) 瀏覽:1124

      在(zài)“十二五”863計劃新材料領域“先進激(jī)光材料及(jí)全固態激光技術”主題項目支持下(xià),中國科學院理化技(jì)術研究所承擔的“深紫外激光器及(jí)人工晶體關鍵技術”課題取得重大進展,於近期通過了課題技術驗收。
    深紫外激光由於波長(zhǎng)短、光子(zǐ)能量高,因而在高(gāo)分辨率成像、光譜應用、微細加工等(děng)諸多領域(yù)具(jù)有重要的應用價(jià)值,獲得實用化、精密化的深紫外光源一直是科學家們(men)不斷追求的目標。我國在深(shēn)紫外晶體材料和激(jī)光技術領(lǐng)域具有國際領先優勢,但隨著應用的發展,急需更高性(xìng)能(néng)的深紫外全固態激光源(DUV-DPL),如更高功率、更窄線寬。
    該(gāi)課(kè)題在國際上首次實現高功率、窄線寬177.3nm深紫外激光輸出,解決了大尺寸KBBF 族深紫外晶體生長、優(yōu)質KBBF-PCT器件研製(zhì)、高效深紫外倍頻技術、窄線寬深紫外激光產生技術等關鍵問題(tí),KBBF晶體厚度突破4mm,首次獲得了(le)大功率(146.5 mW)、窄線寬(0.88 pm)的(de)177.3 nm深(shēn)紫外激光輸出(chū)。
    課(kè)題完善、鞏固了我國擁有的深紫外自主(zhǔ)知識產權體係,填補了直接倍頻產生(shēng)高功率、窄線(xiàn)寬深紫外激光的空白,擴展了深紫外激光(guāng)可實用化、精密化應用。

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