隨著去年由牛津儀器主辦，中科院半導體所協辦的（de）研討會成功舉行，吸引了（le）110餘名（míng）來自半導體領域的用（yòng）戶。今年牛津儀器將（jiāng）再次（cì）在上海舉辦為期一天的納米級等（děng）離子研（yán）討會.

      研（yán）討會設在Semicon 2012的前一天, 牛津儀器（qì）的國外應用專家及國內知名機構的（de）用（yòng）戶（hù）將出席並發言.

      本次研討會（huì）主題與主講者如下（xià）:

??Introduction to ALD and its applications, including photovoltaics; Prof Erwin Kessels, University of Eindhoven (TU/e), Netherlands

??Etch & deposition process in the OPTO and MEMS application device; Dr. Chu Ann-Kuo, Professor of Department of Photonics, National Sun Yat-sen University, Taiwan

??Infrared Focal Plane Arrays (IRFPAs) detector for space applications; Dr. Zhenghua YE, SITP (Shanghai Institute of Technology Physics)

??Micro/Nano fabrication and characterization of Si field electron emitters; Guest Speaker: Dr. Juncong SHE, Sun Yat-Sen University, China

?? ALD used in the MEMS application; Jerry Wang, Manager of Microsystems Technology Center, ITRI, Taiwan

      牛津儀器等（děng）離子部的亞洲銷售（shòu）經理Jeffrey Seah先生將為這次研討會致開幕（mù）詞：“預計將有許（xǔ）多的（de）觀眾參加這次的研討會, 我們非常（cháng）榮幸地邀請到了國內知名機構（gòu）的用戶介紹他們（men）如何操作使用（yòng）我們的等離子（zǐ）工藝，同時（shí）還有機會與等（děng）離子工藝應用專家們（men）分享（xiǎng）經驗, 從而讓大家學習到更多的相關知識。”
   
      我們（men）在2011年取得了（le）成功，今年的研討會也會有眾多知名（míng）的嘉賓到場並發表精彩演講，牛津儀器真誠地期待對等離子工藝的學術和生產有濃厚興趣（qù）的觀眾參加。